200907261035WAFER四大製程WAFER四大製程 (應該是五製程) ion implanation 主要是在基板微影完之後,將dopant離子化之後利用電場將它加速至打入基板所需的能量之後,射入Si晶格中改變其電性;其優點在於低溫環境下運作與離子能準確的控制摻雜深度,其較具非等向性。 diffusion 原理同"擴散"篇 CVD(chemical vapor deposition)化學氣相沉積 PVD(physical vapor deposition)物理氣相沉積 國立台灣科技大學電資學士班 NTUST ECE (本文章由96級 MINSASKY學長提供,文章原載於PTT NTUST-ECE版) 小弟在GG 當輪班設備 首先先來解釋一下半導體製造業的基本面 半導體產業簡單說其實只有三個: 上層就是:IC 設計 [ptt稱:豬屎屋(working "design house")] 此層之上有fabless 之稱(簡單說就是不用到無塵室) 中層:IC製造
下層:封裝與測試 __________________簡單分析結束__________________________ 接著要來解釋IC製造有啥東西? 大家應該都有聽說過四大製程 我待的是薄膜所以就先解釋薄膜 對CVD和PVD有興趣的得自行google一下 CMP簡單說就是磨晶圓,因為晶圓會長film,長完會不平整
●擴散分兩個:diffusion 和 Ion Implantater(離子植入) ●蝕刻有分乾蝕刻的跟濕蝕刻 ●黃光=顯影就是把IC設計好的圖印在晶圓上 大家應該都會聽到GG最缺的有哪幾種:設備、製程、廠務、製造課長 以下簡單解釋各職缺的工作內容: 設備的學歷標準比較低,人數也最多也最缺 製程: 學歷要求比較高,沒聽說有學士當製程的(說不定很老的有) 還有一種職缺叫做助工(設備助理工程師) 製程整合(別稱:lot owner) 廠務: 製造課長:(帶線課長) 以上都是大家比較常見的職缺和內容 ___________________________喘息線___________________________ 以下解說幾個不負責任的迷思 四大製程毒性分析? 部門操不操? GG到底好不好? 說到這裡............................................... 有人會想進GG嗎???? 免不了要說以上都我夢到的 個人的誠心建議: 下次有時間再PO 求職心得 PO這文是希望學弟妹能簡單了解半導體跟GG 有問題可以問我唷~~~我很樂意回答 本文僅給電資班的學弟妹參考~ |